Отправляет email-рассылки с помощью сервиса Sendsay
  Все выпуски  

Секреты гальваники от Галины Королевой


  Химическое меднение – что это такое?

Необходимость  химического меднения возникает  при металлизации диэлектрика для создания токопроводящего слоя. Другое назначение – для меднения металлических деталей сложного профиля, так как химическое меднение позволяет получить равномерное по толщине покрытие по всей поверхности.

В зависимости от назначения составы растворов химического меднения, как и подготовительные операции, различны. Перед химическим меднением поверхность диэлектрика надо тщательно подготовить механически, травлением в химическом растворе создать шероховатость, которая обеспечит при меднении адгезию покрытия к основе. Затем  поверхность химически обезжирить в растворе, г/л:

Тринатрийфосфат  30-40

Натр едкий 8-10

Стекло натриевое жидкое  5-7

Карбонат натрия  40-45

в течение 3-5 минут при температуре 40-500С.

Для травления используют раствор, содержащий 100 г серной кислоты и 30 г хромового ангидрида. Чтобы обеспечить шероховатость, необходимую при меднении, детали выдерживают в  растворе в течение 1-5 минут при температуре 600С

После тщательной промывки перед меднением проводят сенсибилизацию в  растворе двухлористого олова (30-40 г/л) и соляной кислоты (30-40 г/л) при температуре 18-250С, промывают в дистиллированной воде и активируют в растворе двухлористого палладия:

Pd  1-2 г/л

HCl  1-2 мл/л

При комнатной температуре 3-5 минут

В результате из раствора на поверхности осаждается тонкий слой палладия, который катализирует осаждение меди из раствора химического меднения.

Sn2+ + Pd2+ =  Pd  +  Sn4+

С учетом назначения слоев осажденной меди растворы химического меднения подразделяют на: разбавленные растворы – для тонкослойного химического меднения и концентрированные растворы – для толстослойного химического меднения. Тонкие (0,5-1 мкм) медные слои выполняют функцию подслоя в процессе металлизации диэлектриков, а толстые (до 20-30 мкм) – функцию рисунков печатных плат.

Составы растворов химического меднения сходны по основным компонентам, но отличаются по концентрациям и добавкам, восстановителем химической меди в растворах химического меднения является формальдегид.

Для тонкослойного химического меднения наиболее распространен тартратный раствор:

Медь сернокислая   15-20 г/л

Никель хлористый   4-6 г/л

Тартрат натрия     60-80 г/л

Натр едкий  15-20 г/л

Натрий углекислый  5-7 г/л

Формалин (33%)  10-20 мл/л

Температура 18-250С, время 10-20 минут.

Толстослойное химическое меднение проводят в глицериновом растворе:

Медь сернокислая   100 г/л

Натр едкий  100 г/л

Глицерин 100 г/л

Формалин (33%)  25-35 мл/л

Температура 18-250С, время от 20 минут, покачивание.

Процесс химического меднения
Процесс химического меднения

По подслою химической меди производят гальваническое меднение толщиной до 20 мкм из кислого электролита.

Принципиально другой механизм химического меднения латуни из раствора:

Фосфорная кислота 150 г/л

Уксусная кислота  100 г/л

Глицерин   10 г/л

Перекись водорода 100 г/л

Оптимальная температура 85-900С

Время меднения 5-10 минут.

Химическое меднение из раствора происходит вследствие растворения поверхностного слоя цинка, поэтому образующееся при меднении покрытие имеет прочное сцепление с латунью. Толщина покрытия при химическом меднении за 10 минут составляет 10-12 мкм.

В результате использования растворов химического меднения можно получить металлизацию на любом диэлектрике.

Думайте, творите!

За услугами по разработке технологии химического меднения обращайтесь к нам!

Похожие публикации:


В избранное